Abstrakt

Einfluss der KF-Konzentration auf den Beschichtungsprozess und die Eigenschaften des potentiostatisch abgeschiedenen Fluorid-Konversionsfilms auf der AZ31-Mg-Legierung

Junhua Dong

Die Abhängigkeit des Beschichtungsprozesses und der Eigenschaften des Fluorid-Konversionsfilms auf der AZ31-Mg-Legierung von der Konzentration der entlüfteten KF-Lösungen wurde mittels anodischer potentiostatischer Abscheidung, Rasterelektronenmikroskopie (SEM), energiedispersiver Röntgenspektroskopie (EDS), Röntgenbeugung (XRD), Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (XPS) und elektrochemischer Impedanzspektroskopie (EIS) untersucht. Die Ergebnisse zeigen, dass der in 0,05 M KF-Lösung abgeschiedene Film eine Monoschicht aus amorphem Mg(OH)2 und MgF2 ist, während sich amorphes Mg(OH)2 und MgF2 sowie kristallisiertes KMgF3 als Doppelschicht in 0,1 M bis 0,5 M KF-Lösungen bilden. Die Zusammensetzung der inneren Schicht ist dieselbe wie die der Monoschicht, während die äußere Schicht aus Mg(OH)2, MgF2 und KMgF3 besteht. Eine kontinuierliche Erhöhung der KF-Konzentration verringert den KMgF3-Gehalt in der Außenschicht, verkürzt die Beschichtungsdauer und verringert die Filmdicke. Die Korrosionsbeständigkeit von FCF-Beschichtungen hängt eng mit dem KMgF3-Gehalt und der Filmdicke zusammen.