Sajal Biring
Um die hohe Wiedergabetreue eines Nanoformungsprozesses zu erreichen, wurde eine Kontaktmodus-Rasterkraftmikroskopiestudie (c-AFM) durchgeführt, bei der auf einem Siliziummaster hergestellte Nanostrukturen auf eine Aluminiumoberfläche repliziert werden. Die AFM-Bilder der Nanostrukturen weisen aufgrund der begrenzten Größe der AFM-Spitze systematische Artefakte auf und setzen somit der Schätzung der Wiedergabetreue des Nanoformungsprozesses Grenzen. Die in diesem Schreiben vorgestellte quantitative Analyse ermöglicht die Extraktion der Parameter, die zur Offenlegung der hohen Wiedergabetreue des Nanoformungsprozesses erforderlich sind, während die tatsächliche Breite und Tiefe der Nanostrukturen noch unbekannt sind. Diese Arbeit gibt der Forschung auf dem Gebiet der Rasterkraftmikroskopie von Nanostrukturen eine Richtung vor, um die Daten bei Vorhandensein systematischer Artefakte genau zu analysieren.