Fotoresist-Technologie

Ein Fotolack ist ein lichtempfindliches Material, das im Rahmen einiger moderner Verfahren wie Fotolithographie und Fotogravur verwendet wird, um eine bestimmte Beschichtung auf einer Oberfläche zu formen.

Verwandte Zeitschriften zur  Photoresist-Technologie

Trends in der Pflanzenwissenschaft, Pflanzenbiologie, International Journal of Plant Biology, Functional Plant Biology, Annual Review of Plant Biology.

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